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初恋这件小事

平多新款iPhone XS/Max/XR降价,最高降价1500元以上_我的网站

一吻定情

A | 1月11日,新闻电子商务平台平多今天宣布,将再次降价最新版本的iPhone。其中,苹果的iphone xr、iphone xs、iphone xs max等流行机型的价格分别达到5099元、7299元、8099元的新低,部分产品与苹果官方网站价格相比下降了1500元。    【TechWeb】知名半导体分析机构 SemiAnalysis 发布了对华为麒麟 9030 芯片的拆解报告。报告显示,这颗由中芯国际(SMIC)代工的芯片,其最小金属间距(metal pitch)达到 32.5nm,比 Intel 最新的 18A 工艺 Panther Lake 的 36nm 还要大约 10%。更关键的是,这家中国晶圆厂是在无法获得最先进 EUV 光刻机的情况下,通过 DUV 多重 patterning 和设计-工艺协同优化(DTCO)达到这一密度水平。         一颗“金属间距比 Intel 18A 更小”的中国芯片          SemiAnalysis 的拆解指出,麒麟 9030 采用 SMIC 的 N+3 工艺(第三代 7nm 级节点),其 M0 局部金属层间距为 32.5nm,而 Intel 18A 的 M0 间距为 36nm。

B | 从2019年1月1日到10日,该平台最新系列的iPhone已售出近10万部,主要销往北胜、广州和深圳等一线城市。这意味着在最细金属线宽这一指标上,SMIC N+3 已比 Intel 最新一代逻辑节点更“紧凑”。         不过,报告也强调,金属间距只是衡量制程能力的指标之一,并不能代表整体工艺水平。

C | SMIC N+3 的晶体管密度约 113.4 MTr/mm²,略高于 TSMC N6 的 107.7 MTr/mm²,但仍明显落后于 Intel 18A 的高密度库。随着“春节”周期的进入,平多对热门手机类的补贴继续增加,部分车型在原有优惠的基础上,进一步推出了300元无门槛现金券等活动。         没有 EUV,如何做到更密金属层?          在 EUV 光刻机被出口管制限制的背景下,SMIC N+3 并没有“等 EUV 可用”才开始推进先进制程。SemiAnalysis 的分析显示:          SMIC 通过“DUV 浸没式 + 自对准四重图形(SAQP)”等高复杂度工艺,实现与 TSMC N6 相当的逻辑密度,但代价是工序更多、成本更高、控制难度更大。报告明确提到,即便没有 EUV,SMIC 仍达到甚至超过了一些使用 EUV 的成熟节点(如 TSMC N6)的密度水平。         这回答了 SemiAnalysis 提出的那个关键问题:在 EUV 不可得的前提下,中国芯片制造到底走到了哪一步?——至少从金属间距和局部密度看,它已经逼近甚至某些指标上“咬住”了最新一代制程。受这些促销活动的影响,平台手机销售有望进一步增长。         金属更密 ≠ 整体领先          SemiAnalysis 同时强调,“金属间距更小”的标题很抓眼球,但并不等同于工艺整体领先:          在晶体管密度、性能、功耗等综合指标上,SMIC N+3 仍落后于 Intel 18A、TSMC N3P 等最先进节点。据悉,1月11日,京东、天猫、苏宁等平台除拼写较多外,还分别下调了iPhone系列产品的价格。

D | 价格调整的主要模式是iPhone的8/8升级版。从1月11日0:00开始,京东平台苹果iPhone8和8 Plus的价格分别下调至3999元和4799元,分别下调600元和800元。高密度是通过更复杂的 DUV 多重图形、更严苛的设计规则和工艺控制“换”来的,这在良率和成本上带来额外挑战。从1月11日的0:00开始,苹果在天猫平台上大幅降价,一些机型跌至历史新低。

E | 报告指出,麒麟 9030 的整体性能大致相当于三年前的 Android 旗舰 SoC,与当前苹果、高通、联发科、三星的最新旗舰仍有明显差距。         对先进制程竞争格局的启示          这次拆解再次说明,先进半导体竞争比“有没有 EUV”的简单二元判断更复杂:在没有 EUV 的条件下,SMIC 通过 DTCO、SAQP 等手段,仍然把金属层密度推进到接近甚至部分指标优于 Intel 18A 的水平。天猫苏宁旗舰店的iphone xr和8/8p价格分别降到5549元、3899元和4788元,最高价格比苹果官方网站低1200元。这意味着出口管制改变了问题的难度,但并未完全冻结中国先进制程的演进路径。北京东方iPhone 8 64GB 3999元直连北京东方iPhone 8加64GB4799元直连。同时,从性能、功耗、良率等多维度看,SMIC 与全球最领先工艺之间仍有明显差距,中国在整体生态、EDA、材料与设备等方面仍面临“追赶之路”。

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Published on:15:37:15


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